電子束微影系統

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  2. 中心設施
  3. 核心設施
  4. 電子束微影系統
概要
facilities

特色：

  • 加速電壓：100 kV
  • 曝光電流：20 pA - 100 nA
  • 掃描速度：200 MHz
  • 主腔體真空度：≤ 4 × 10-4 Pa
  • 電子束直徑：φ 1.8 nm
  • 最小線寬：6 nm
  • 曝寫視野尺寸： 100 µm、250 µm、500 µm、1000 µm（標準視野尺寸）
  • 掃描解析度：最小解析度0.2 nm
  • 曝寫面積：X ≤ 210 mm，Y ≤ 210 mm
  • 可寫入尺寸：破片至8吋晶圓
使用方式
  1. 自行操作
  2. 代工
申請流程
  1. 通過中央研究院新進同仁實驗安全教育。
  2. 自行閱讀簡介內容及申請流程、管理辦法。
  3. 繳交申請書後由管理者進行機台訓練。
  4. 考核通過後始得門禁、機台權限；未通過者，一個月後得申請再進行考核。
相關文件下載
使用規則 申請書 代工申請表
收費標準
※訓練次數最少三次，共計六小時
國內學術機構 國內非學術機構
自行操作 NTD 1,500/h -
代工 NTD 3,000/h NTD 5,000/h
教育訓練 NTD 1,500/h NTD 5,000/h
預約系統
若有使用本中心管理的核心設施所產生之研究成果，請在論文發表加註： The fabrication work for this study was supported by the core facilities of the Center for Applied Sciences (RCAS), Academia Sinica, under project No. AS-CFI-113-A10.
儀器管理者：陳家雯小姐
Mail jwchen1123as.edu.tw
call 02-27873192
儀器負責人：謝書宜博士
Mail shuyihsiehas.edu.tw
call 02-27873147