概要

本中心的設備主要協助同仁進行生醫影像觀測、材料表面分析、元件結構製作及精密樣品製程等研究,分布在跨領域科技研究大樓(以下簡稱為IRBST)六樓、四樓及地下二樓。除了核心設施,中心在六樓、四樓及地下二樓亦有公用實驗室,可配合同仁進行相關製程、影像、細胞及蛋白質研究。
本中心設施按照功能可分為三大類型:高解析顯微鏡、樣品分析、微奈米製程。
本中心也會視情況進行設施升級及相關實驗室配置改善,
為了讓同仁安全地進行研究,中心對於各實驗室及設施都有相對應的安全規劃及管理。
類型 | 儀器 | 功能 | 廠牌 | 位置 |
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高解析度顯微鏡 | 原子力顯微鏡 | 材料表面分析 | Bruker DM-CAFM | 陽明交通大學 田家炳光電中心 506室 |
快速雷射掃描共軛焦分光光譜顯微鏡 | 生物暨螢光樣品量測 | Leica TCS-SP5 | IRBST 4B20 | |
液相原子力顯微鏡 | 奈米材料或元件液態檢測 | JPK Nano Wizard II & III | IRBST B2C01 | |
顯微拉曼光譜儀 | 材料螢光及結晶特性分析 | Jobin Yvon HR800 | IRBST 6B08 | |
場發射高低真空高解析度掃描式電子顯微鏡 | 表面結構與元素分析 | Nova 200 NPE 44/D8187 | IRBST 4C05 | |
樣品分析 | X 光光電子光譜儀 | 表面與縱深元素分析 | ULVAC-PHI PHI-5000 Versaprobe | IRBST 4C05 |
掃描式離子顯微鏡 | 表面與縱深元素與分子分析 | ULVAC-PAI TRIFTV | IRBST 4C05 | |
皮秒時間相關單分子螢光顯微光譜儀 | 多通道的時間解析光譜系統 | PicoQuant Micro Time 2000 | IRBST 6B10 | |
可變角度橢圓儀 | 材料膜厚及折射率分析 | VUV-VASE, Gen-II | IRBST 6A02 | |
奈米級雷射非接觸式3D表面量測儀 | 奈米級表面輪廓/粗糙度量測 | Keyence VK9710K S/N 2190011 | IRBST 4C01 | |
桌上型直寫曝光系統 | 多元件光阻圖樣製作 | Heidelberg uPG501 | IRBST B2C02 | |
微奈米製程 | 試片準備機一套 | 表面薄膜製程與蝕刻 | Gated Sted SKE104005 | IRBST 6A02 |
高解析高精密雙束聚焦離子系統 | 奈米元件結構製作 | FEI NanoLab660 | IRBST 4B19 | |
電感耦合電漿蝕刻機 | 奈米元件乾溼蝕刻 | OXFORD ICP65 | IRBST B2C02 |
- 所有儀器使用前皆需進行預約。
- 取消預約皆需在預約時間以前。對於準備與操作時間較長之XPS與ToF-SIMS,預約需於三日前取消。
- 預約時間超過15分鐘未到未使用,其他使用者可經由報備管理者而進行儀器使用,原預約者仍需支付儀器使用費。
- 未預約逕行使用儀器及預約而未照規定取消者,停權一個月並通知其指導教授;違反本規定三次者,永久停權。
- 儀器管理者有權視實際需要彈性調整預約情形。
預約規則
- 使用者需於中央研究院之預算管理系統設有帳號。使用費於每年四、七、十月,透過轉帳機制收取。如有未付清之使用費,將暫時停止該團隊之使用權直到付清,且管理者得要求使用者預繳與前期相同金額之使用費,方恢復其使用權。
- 儀器僅供合格使用者,於開放時段內自行操作,且無技術員可提供委託服務。合格使用者可自行訓練新進人員,並經管理人員考核通過後,成為合格使用者。如需要管理人員進行操作訓練,相關時段之使用費以二倍計收。
- 如有違規或不當操作造成儀器損壞,使用者除需照價賠償以便修復外,並需支付停機維修期間所有開放時段之使用費。
- 中研院院內使用者得有七折優惠,中研院奈米計劃使用者得有五折優惠,應科中心使用者得有三折優惠。
- 不得使用毒性化學物質(不論是否列管),或具有揮發性、放射性、爆炸性、生物活性等物質,管理人員得依個別儀器特性,拒絕其他(包含,但不受限於)如磁性、粉體等樣品之使用。若未經許可使用上述物質,該使用者所屬團隊將永久禁止使用。