核心設施

概要
ALD

本中心的設備主要協助同仁進行生醫影像觀測、材料表面分析、元件結構製作及精密樣品製程等研究,分布在跨領域科技研究大樓(以下簡稱為IRBST)六樓、四樓及地下二樓。除了核心設施,中心在六樓、四樓及地下二樓亦有公用實驗室,可配合同仁進行相關製程、影像、細胞及蛋白質研究。

本中心設施按照功能可分為三大類型:高解析顯微鏡、樣品分析、微奈米製程。

核心設施資訊
所有設施每年都會進行例行性維護保養,
本中心也會視情況進行設施升級及相關實驗室配置改善,
為了讓同仁安全地進行研究,中心對於各實驗室及設施都有相對應的安全規劃及管理。
類型 儀器 功能 廠牌 位置
高解析度顯微鏡 原子力顯微鏡 材料表面分析 Bruker DM-CAFM 陽明交通大學
田家炳光電中心 506室
快速雷射掃描共軛焦分光光譜顯微鏡 生物暨螢光樣品量測 Leica TCS-SP5 IRBST 4B20
液相原子力顯微鏡 奈米材料或元件液態檢測 JPK Nano Wizard II & III IRBST B2C01
顯微拉曼光譜儀 材料螢光及結晶特性分析 Jobin Yvon HR800 IRBST 6B08
場發射高低真空高解析度掃描式電子顯微鏡 表面結構與元素分析 Nova 200 NPE 44/D8187 IRBST 4C05
樣品分析 X 光光電子光譜儀 表面與縱深元素分析 ULVAC-PHI PHI-5000 Versaprobe IRBST 4C05
掃描式離子顯微鏡 表面與縱深元素與分子分析 ULVAC-PAI TRIFTV IRBST 4C05
皮秒時間相關單分子螢光顯微光譜儀 多通道的時間解析光譜系統 PicoQuant Micro Time 2000 IRBST 6B10
可變角度橢圓儀 材料膜厚及折射率分析 VUV-VASE, Gen-II IRBST 6A02
奈米級雷射非接觸式3D表面量測儀 奈米級表面輪廓/粗糙度量測 Keyence VK9710K S/N 2190011 IRBST 4C01
桌上型直寫曝光系統 多元件光阻圖樣製作 Heidelberg uPG501 IRBST B2C02
微奈米製程 試片準備機一套 表面薄膜製程與蝕刻 Gated Sted SKE104005 IRBST 6A02
高解析高精密雙束聚焦離子系統 奈米元件結構製作 FEI NanoLab660 IRBST 4B19
電感耦合電漿蝕刻機 奈米元件乾溼蝕刻 OXFORD ICP65 IRBST B2C02
預約事項

    預約規則

  • 所有儀器使用前皆需進行預約。
  • 取消預約皆需在預約時間以前。對於準備與操作時間較長之XPS與ToF-SIMS,預約需於三日前取消。
  • 預約時間超過15分鐘未到未使用,其他使用者可經由報備管理者而進行儀器使用,原預約者仍需支付儀器使用費。
  • 未預約逕行使用儀器及預約而未照規定取消者,停權一個月並通知其指導教授;違反本規定三次者,永久停權。
  • 儀器管理者有權視實際需要彈性調整預約情形。

    一般管理規則

  • 使用者需於中央研究院之預算管理系統設有帳號。使用費於每年四、七、十月,透過轉帳機制收取。如有未付清之使用費,將暫時停止該團隊之使用權直到付清,且管理者得要求使用者預繳與前期相同金額之使用費,方恢復其使用權。
  • 儀器僅供合格使用者,於開放時段內自行操作,且無技術員可提供委託服務。合格使用者可自行訓練新進人員,並經管理人員考核通過後,成為合格使用者。如需要管理人員進行操作訓練,相關時段之使用費以二倍計收。
  • 如有違規或不當操作造成儀器損壞,使用者除需照價賠償以便修復外,並需支付停機維修期間所有開放時段之使用費。
  • 中研院院內使用者得有七折優惠,中研院奈米計劃使用者得有五折優惠,應科中心使用者得有三折優惠。
  • 不得使用毒性化學物質(不論是否列管),或具有揮發性、放射性、爆炸性、生物活性等物質,管理人員得依個別儀器特性,拒絕其他(包含,但不受限於)如磁性、粉體等樣品之使用。若未經許可使用上述物質,該使用者所屬團隊將永久禁止使用。