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量子光電專題中心

關於量子光電專題中心1
關於量子光電專題中心2
量子光電專題中心主要目標在於發展應用於光量子技術的關鍵材料與元件。本專題中心整合應科中心原有的研究強項,包含材料生長、光譜量測、元件製程以及理論分析,同時亦與國內外先進研究團隊建立合作,藉此槓桿先進技術以期突破應用於光量子技術之材料與元件的技術瓶頸。

主要研究方向

主要研究方向
開發量子光源以及單光子偵測器、
探索室溫量子系統應用於自旋操控與量子感測、
奈米光子結構設計與製作以及發展新材料與元件技術;
期許未來可以在光量子運算與量子通訊應用達成重要的技術突破。

主軸計畫

提升量子光電元件效率及光量子晶片技術開發
提升量子光電元件效率及光量子晶片技術開發

量子光電元件,包含單光子光源與單光子偵測器,結合操控光子的光量子晶片,是量子通訊以及光量子運算的關鍵元件與技術。本計畫擬開發之關鍵技術包含:(1)通訊波段高效率單光子光源;(2)紅外線超導體單光子偵測器;(3)量子光電晶片。本計畫擬透過光學共振腔設計,理論模擬計算最佳結構,提升單光子光源與偵測器的效率,達到更高的光子不可分變性,提升糾纏光子對保真度,優化單光子偵測靈敏度與響應速度。開發量子光電晶片技術,整合單光子光源與偵測器,達成光量子態控制與讀取。此外,本計畫也將透過新材料研發(SiO₂/SiN、hBN、SiC),開發通訊波段室溫操作的單光子光源。

二維材料之電子與光電元件技術開發
二維材料之電子與光電元件技術開發

二維材料在新世代電子元件與光電元件具有廣泛的應用,但也存在許多瓶頸。本團隊已具備開發高效能二維電晶體技術,包含以少數層MoS₂為通道材料,在小線寬並搭配鈍化層的元件可達100 μA/μm 汲極電流以及>100 cm²·V⁻¹·s⁻¹的載子遷移率。基於過去累積的元件技術,本計畫將進一步開發WSe₂電晶體元件技術。由於環境對WSe₂材料影響較為顯著,元件效能仍待提升。本計畫將透過改善材料品質與優化製程,目標實現場效遷移率達10 cm²·V⁻¹·s⁻¹的WSe₂電晶體。在光電元件方面,本團隊已開發出大面積多層MoS₂薄膜成長技術作為光吸收層,並以單層石墨烯作為載子傳輸層,實現具備高響應度與短響應時間的光偵測器。本年度目標擬將二維材料與傳統半導體整合,開發異質維度光偵測器,透過二維材料短載子遷移時間以及傳統半導體的多樣能隙範圍,在室溫下實現長波長光偵測。此外,二維材料具有超快載子反應速度,搭配其原子層厚度可應用於積體光學晶片中之高速光調變元件。本計畫擬將二維材料與微型光學奈米共振腔結合,使激子和共振腔耦合,並透過外加電壓調控共振腔發光強度,實現高速二維半導體光調變元件,應用於未來積體光學晶片與量子光電晶片。

電極金屬結晶度:二維材料奈米尺度接觸電阻之模型與萃取
電極金屬結晶度:二維材料奈米尺度接觸電阻之模型與萃取
電極和二維材料界面的高接觸電阻是進一步提升二維元件特性的主要瓶頸之一。我們已證實透過傳統的光蝕刻和金屬舉離(lift-off又稱為剝離)製程製作多晶銻烯(antimonene)接觸電極,可觀察到低接觸電阻並提升元件特性。然而,由於銻烯的耐熱性和耐化學性較弱,銻烯可能不是半導體產線中適合的材料。在初步研究中,我們已證明接觸電極的結晶度可能是影響金屬/二維材料界面接觸電阻的主要問題。因此本計畫目標是擬透過提高電極結晶度來降低金屬/二維材料界面接觸電阻。為了減少通道電阻對測量結果的影響,將採用導電原子力顯微鏡,量測奈米尺度內不同接觸金屬的實際接觸電阻,並進行第一原理建模,以理論模擬研究,獲得更深入的理解。本研究也將探索將低接觸電阻應用於發光元件的可行性。